Dokumentart:
Norm
Ausgabedatum:
2023-08
Titel (deutsch):
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren
Titel (englisch):
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method
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Originalsprachen:
Deutsch